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南方华创ALD集成电路关键设置装备排列交付客户

12月5日,由南方华创部属子公司南方华创微电子自主研发的12英寸原子层会集(Atomic Layer Deposition,ALD)设置装备排列进驻上海集成电路研发中心。南方华创微电子为国产高端设置装备排列在后退先辈集成电路芯片生产线的运用再添新秀。

ALD设置装备排列是后退先辈集成电路打造工艺中必了始终可少的薄膜会集设置装备排列,ALD工艺具备工艺温度低、薄膜厚度管制精确及台阶包围率低等短处。在集成电路特色线宽成长到28纳米节点后,ALD工艺运用日趋遍布。南方华创微电子自2014年最先结构ALD设置装备排列的开发方案,历时四年,败北推出运用于集成电路范畴的量产型单片ALD设置装备排列——Polaris A630,运用于会集集成电路器件中的高介电常数以及金属栅极薄膜质料,设置装备排列的焦点技术指标到达海在后退先辈水平。

这次,南方华创微电子Polaris A630 ALD设置装备排列败北进驻上海集成电路研发中心有限公司,同时进驻产物还有南方华创微电子集成电路Al Pad工艺的eVictor A1030物理气相聚个人系。至此,南方华创微电子已经有硅刻蚀机、单片退火设置装备排列、Hardmask PVD、Al Pad PVD、单片洗涤机、立式炉、ALD等集成电路设置装备排列运用于28-14纳米工艺制程,扩展了国产高端设置装备排列在集成电路后退先辈制程的配套运用范畴。